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5.炭化ケイ素技術

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5-1導入

2018-01-08


炭化ケイ素(SiC)ベースの半導体電子デバイスおよび回路が現在開発されている

高温、高出力、および高放射条件での使用のために、従来の半導体

適切に実行することはできません。このような極端な条件下で機能する炭化ケイ素の能力

さまざまなアプリケーションやシステムに大幅な改善をもたらすことが期待されています。

これらは公衆電力のエネルギー節約のために大幅に改良された高電圧スイッチングから

より強力なマイクロ波電子機器への配電および電気モーター駆動

燃費の良いジェット機と自動車をよりクリーンに燃やすセンサーとコントロール

エンジン。パワーデバイスの特定の分野では、理論的な評価によって、

パワーMOS FETおよびダイオード整流器は、より高い電圧および温度範囲で動作し、

優れたスイッチング特性を備えていますが、それに対応してダイサイズは20倍近く小さくなります

シリコンベースの定格デバイスです。しかし、これらの驚異的な理論的利点はまだ広範ではない

商業的に入手可能な装置で実現されたのは、主に、sicの比較的未成熟

結晶成長およびデバイス製造技術は、必要な程度にはまだ十分に開発されていない

ほとんどの電子システムに信頼性の高い組み込みが可能です。


この章では、半導体のエレクトロニクス技術について簡単に調査します。特に、

シリコンエレクトロニクス技術とよく知られたシリコンvlsi技術

強調表示されます。 sicエレクトロニクスの予測されるパフォーマンスの利点は、いくつかの大規模な

アプリケーション。現在重要な結晶成長およびデバイス製造の問題は、

高温および高出力のSIC電子回路の能力が識別される。


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