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ガン・ヘムエピタキシャル・ウェーハ

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ガン・ヘムエピタキシャル・ウェーハ

窒化ガリウム(GaN)半田(高電子移動度トランジスタ)は、次世代のRFパワートランジスタ技術であり、ガン技術には感謝している。パム - シャーマンはサファイアまたはシリコン上にalgan / gan hemtエピウェハを、サファイアテンプレート上にはalgan / 。

  • moq :

    1
  • 製品詳細

2 "エピタキシャルウェーハ


我々は、2 "ギャーンヘムウェーハを提供し、構造は次のとおりです:


構造(上から下へ):

*アンドープガンキャップ(2〜3nm)

alxga1-xn(18〜40nm)

aln(バッファ層)

ドープされていないガン(2〜3um)

サファイア基板


* Si3nを使用して上部のガンを交換することができます。接着力は強く、スパッタリングやペークドでコーティングされています。


サファイア/ガン上のalgan / gan hemt epiウェーハ


層ID

層名

材料

al含量(%)

ドーパント

厚さ(nm)

基板

ガンまたはサファイア

1

核形成層

様々な、アル

100

した

2

バッファ層

ガン

元気

1800

3

スペーサー

アルン

100

元気

1

4

ショットキー障壁

アルガン

20または23または26

元気

21


2 "、4" algan / gan hemt epiウェーハ


シリコン基板上の窒化アルミニウムガリウム(Algan)/窒化ガリウム(gan)高電子移動度トランジスタ(hemt)の1.1規定。

要件

仕様

アルガン/ガンダム  Si上のエピウェハ

 

アルガン/ガンダム  構造

1.2を参照してください

基板  材料

シリコン

オリエンテーション

u003c111u003e

成長法

フロートゾーン

導電型

pまたはn

サイズ(インチ)

2 "、4"

厚さ(μm)

625

裏側

荒い

抵抗率(Ω・cm)

> 6000

弓形(μm)

±35


1.2。構造:亀裂のないエピ層

層#

組成

厚さ

バツ

ドーパント

キャリア濃度

5

ガン

2nm

-

-

-

4

アル バツ 1-x n

8nm

0.26

-

-

3

アルン

1nm

ドープされていない

2

ガン

1000nm以上

ドープされていない

1

バッファ/トランジション  層

-

-

基板

シリコン

350μm / 625μm

-


1.3 algan / gan hemt構造の電気的特性


2deg移動度(300kにおける):≧1800cm 2 / v.s

シートキャリア密度(300kで)2dg:≧0.9x1013cm-2

rms粗さ(afm):≦0.5nm(5.0μm×5.0μmスキャンエリア)


2 "algan / gan on sapphire


サファイアテンプレート上のalgan / ganの仕様については、sales @ powerwaywafer.comまでお問い合わせください。


アプリケーション:青色レーザーダイオード、紫外LED(250nmまで)、およびアルガン/ガンハットデバイスで使用されます。


algan / al / gan hemtsの説明:


高周波増幅およびパワースイッチングアプリケーションにおいて、高出力エレクトロニクスのために窒化物のヘムが集中的に開発されている。ヘムトが切り替わると、DC動作の高性能が失われることがよくあります。たとえば、ゲート信号がパルスされるとオン電流が崩壊します。このような影響は、ゲートの効果を電流フローにマスクする電荷トラッピングに関連すると考えられる。ソース及びゲート電極上のフィールドプレートは、このような電流崩壊現象を緩和するために、デバイス内の電界を操作するために使用されてきた。


ganエピタキシ技術 - ヘット、リードのためのsic、siおよびサファイア基板上のカスタマイズされたガンエピタキシー:


関連分類:


algan / gan hemtバンドダイアグラム、algan / gan hemtベースのバイオセンサー、algan gan hemt phdテーゼ、algan / gan hemtベース液体センサー、algan / gan hemt信頼性、300 ghzのalgan / gan hemt、algan gan装置の概観、臓器全体の特徴付け、インガンベースのバックバリア、アルン/ガンダム、アルガン/アルン/ガンダム、インナル/アルム/ガンダム、アルヌパッシベーションガンドロップを含むアルガン/ガンダムを含む。

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