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ナノワイヤ形状におけるシリコン上の軸方向のinas / gaasヘテロ構造

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ナノワイヤ形状におけるシリコン上の軸方向のinas / gaasヘテロ構造

2018-08-17

inasセグメントは、シリコン基板上に液滴エピタキシによって最初に形成されたガーランド島の上で成長した。我々は、inas堆積のための成長パラメータ空間を系統的に探究し、選択成長の条件を同定した ガウス 純粋に軸方向の成長のために。軸方向のinasセグメントは、下側のガウスベースの島と比較して、その側壁を30°回転させて形成した。シンクロトロンX線回折実験により、 inas セグメントは、ガーネットの上で緩やかに成長し、主に閃亜鉛鉱型の結晶構造および積層欠陥を有する。


ソース:iopscience


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