自宅 /

サーチ

サーチ
  • p型ガンのオーミックコンタクト形成に及ぼす薄く重くドープされたガンキャッピング層の影響

    2018-Jul-11

    強くmgドープされた薄い ガン p型ガンのオーミックコンタクト形成への影響​​を調べた。 過剰なmgドーピングがp-n接合のni / au接触を効果的に高めることができ、 ガン 550℃でのアニール後。 mgガス源とgaガス源との間の流量比が6.4%であり、層幅が25nmである場合、850℃で成長されたキャッピング層は、特定の接触抵抗率(ρc)に関して最良のオーミック接触特性を示す。この温度は、従来のmgドープganの成長温度よりもはるかに低く、深い準位欠陥誘起バンドがキャッピング層の伝導に重要な役割を果たす可能性があることを示唆している。 ソース:iopscience 詳細については、をご覧ください。私たちのウェブサイト: www.semiconductorwafers.net 、 私達に電子メールを送ってください angel.ye@powerwaywafer.com または power...

最初 最終
[  の合計  1  ページ]

お問い合わせ

当社製品に関する見積もりや詳細情報を希望される場合は、私たちにメッセージを残して、できるだけ早く返信します。