2020-03-17
2020-03-09
抽象
同じレジスト被覆基板上にフォトリソグラフィと電子ビームリソグラフィを連続して行う技術を記載する。フォトリソグラフィによってレジスト膜にはより大きな開口部が画定されるが、従来の電子ビームリソグラフィによってはより小さい開口部が画定される。 2つのプロセスは、中間湿式現像ステップを伴わずに次々と実行される。 2回の露光の終了時に、レジスト膜が一度現像されて、大開口部と小開口部の両方が現れる。興味深いことに、これらの技術は、光学ビーム露光と電子ビーム露光の両方を用いたポジ型及びネガ型トーンリソグラフィに適用可能である。この目的のために、ポリメチルメタクリレート単独で、または光触媒架橋剤と混合されている。このようなレジストは、紫外線および電子ビーム照射の両方に敏感であることを実証する。正および負のトーンで実行される光学ビームリソグラフィおよび電子ビームリソグラフィからなる4つの可能な組み合わせすべて モードについて説明した。デモンストレーション格子構造が示されており、プロセス条件は4つのすべての場合について記載されている。
ソース：iopscience
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